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尼康i11光刻机是多少纳米

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14nm。光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

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