专利名称：一种金属有机化学气相沉积反应器专利类型：实用新型专利发明人：楼刚
申请号：CN201120137769.X申请日：20110504公开号：CN202164350U公开日：20120314
摘要：本实用新型提供一种MOCVD反应器，包括炉盖、保护板、沉积区和衬托，炉盖下方是保护板，保护板下方是衬托，炉盖和保护板之间布置通有净化气体的管道，保护板和衬托之间布置从炉盖上方延伸的、通过生长气体的管道，其特征在于，在保护板的竖直方向设置一个或者多个吹扫气孔，保护板下面设置石墨片的衬底，保护板和石墨之间布置通有净化气的管道。
申请人：广东量晶光电科技有限公司
地址：528251 广东省佛山市南海区平洲南港大道昭信广场503室
国籍：CN
代理机构：北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：曹津燕
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