专利名称：一种改进气体分布的等离子体反应器专利类型：发明专利
发明人：杨平,石刚,王兆祥,黄智林申请号：CN201310052981.X申请日：20130217公开号：CN103997843A公开日：20140820
摘要：本发明提供一种改进等离子体分布的等离子体反应器，在所述封闭壳体内的所述基片支撑装置上方和所述气体注入器下方设置中心挡板和边缘挡板，可以同时对从气体外围喷口和中心喷口处注入反应腔的气体进行限制和/或引导，以根据反应工艺需要对反应气体进行均匀性分布控制。所述中心挡板和边缘挡板的结构、尺寸、位置可以有多种变形实施例，本领域技术人员可以根据实际工艺需要选择合适的挡板。
申请人：中微半导体设备(上海)有限公司
地址：201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
国籍：CN
代理机构：上海智信专利代理有限公司
代理人：王洁
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