58 湖南有色金属 HUNAN N0NFERROUS METALS 第31卷第1期 2015年2月 盐酸浸出ITO废靶材中的铟锡分离研究 范文博,李瑞迪,袁铁锤 (中南大学粉末冶金研究院,湖南长沙410083) 摘要:采用盐酸浸出一铝粉除锡工艺回收ITO废靶材中的铟和锡,研究发现,较佳的盐酸浸出条 件为:始酸4 mol/L,温度80℃,浸出时间2 h,双氧水(浓度30%)为废靶用量的10%,铟浸出率可 达99.9%,锡的浸出率为38%;较佳的铝粉除锡条件为:pH值为2,温度60℃,铝粉添加量为理论 用量的2.1倍,锡的脱除率达99.8%,铟损耗率小于3%。 关键词:ITO;浸出;铟锡分离 中图分类号:TF111.31 文献标识码:A 文章编号:1003—5540(2015)01—0058—03 稀散金属铟是电子、电信与光电产业不可缺少 搅拌机等;PS一6真空型电感耦合等离子体原子发 的关键材料,可用于平板显示镀膜、高温超导材料、 信息材料、高性能合金等众多高科技领域 .2 J。铟锡 复合氧化物(ITO)更是凭借其优秀的光电特性,被用 作生产LCD显示屏,其耗铟量占到总耗铟量的60% 射光谱仪(ICP—AES),X射线光谱分析仪(XRD)。 1.3实验方法 稀盐酸清洗靶材表面,研磨至一74 m粉末。 在玻璃烧杯中配置浸出液400 mL,加热至反应温度, 称取ITO粉末50 g(固液比l:8),加入浸出液中, 以上。因ITO在LCD生产领域还没有替代品,其需 求量还有进一步上升趋势 -5]。LCD生产采用直流 磁控溅射方法来获得ITO薄膜,生产中溅射靶材利 用率仅40%~60%,会产生大量废靶 ’ ,因此,从 废靶中回收铟,不但能实现资源循环利用,同时也蕴 含着巨大的经济效益。 450 r/rain速度搅拌,反应过程中间歇加去离子水保 持浸出液体量。浸出完成后,抽滤分离后分析浸出 液和浸出渣成分。 调节浸出液pH值至2,加入铝粉置换除Sn“, 待溶液中Sn¨浓度低于0.001 mol/L后再经置换、 压团、电解等工艺制得纯金属铟。 ITO废靶回收的关键在于铟锡分离 铝粉除锡的铟锡分离技术。 ,为高 效回收废靶中的铟和锡 Hj,本文研究了盐酸浸出 一2实验结果与分析 I170靶材是铟锡氧化物粉经部分还原,再经高 1 实验 温高压压制而成,此过程中,铟锡氧化物中有少部分 被还原成低价氧化物InO、In,O、SnO等,甚至还可能 出现少量金属铟锡。采用盐酸加强氧化剂浸出时, 主要是利用氧化剂在强酸介质下,将废靶中难以浸 1.1 实验原料 青色ITO块状废靶材,化学成分见表1。铝粉 (AR),铝板(≥99.9%),12 mol/L浓盐酸(AR), 30%H:O:溶液,NaOH(AR),去离子水。 表1 ITO废靶成分 % 出的低价铟氧化物氧化成易于浸出的高价铟氧化 物,提高铟的浸出率和回收率。废靶中氧化锡经高 温煅烧后,大都变成不易溶于酸、碱的 型SnO:,浸 出过程中基本上进入渣中,只有金属锡及少量的O/ 1.2实验设备 型SnO 会溶解进入溶液中。因此,浸出渣中的主要 成分为 型SnO:,以及极少量的In、Pb、Cu。 2.1反应温度 HH一¥24恒温水浴锅、水循环真空泵、JHS一1 作者简介:范文博(1990一),男,硕士研究生,主要从事材料工程的 研究。 始酸2 mot/L盐酸,浸出时间2 h,过氧化氢添加 第1期 范文博,等:盐酸浸出ITO废靶材中的铟锡分离研究 59 量10%,反应温度对浸出率影响如图1所示。 图1 浸出温度对铟锡浸出率的影响 由图1可以看出,温度低于75℃,铟浸的出率 随反应温度升高迅速增加,在反应温度大于8O℃ 时,铟的浸出率已达到99.9%。锡的浸出率也随温 度上升而有所增加,大于85℃时浸出率约38%。 2.2初始酸度 反应温度80℃,浸出时间2 h,过氧化氢添加量 10%,初始酸度对浸出率影响如图2所示。 图2初始酸量对铟锡浸出率的影响 由图2可知,增大初始酸度能显著提升铟锡浸 出率,当初始酸度达到4 mol/L时铟基本完全浸出, 锡浸出率仍有增长趋势,但趋于平缓。继续提高酸 度,不仅增加成本,盐酸挥发也会造成设备腐蚀及环 境污染,综合考虑4 moL/L为合适浸出条件,此时加 入的酸量约为理论耗酸量的3倍。 2.3反应时间 温度80 o(=,初始酸量4 mol/L,过氧化氢添加量 10%,铟锡浸出率随反应时间变化如图3所示。 由图3可以看出,反应时间超过2 h时,铟的反 应基本完全,浸出率达到99.9%,延长反应时间,对 铟的浸出率影响不大,而锡的浸出继续增加趋势明 显,为减少锡的浸出,反应时间以2 h为宜。 图3 浸出时间对铟锡浸出率的影响 2.4氧化剂加入量 温度80℃,初始酸量4 mol/L,浸出时间2 h,氧 化剂过氧化氢添加量对铟锡浸出率影响如图4所示。 图4氧化剂添加量对铟锡浸出率的影响 由图4可以看出,过氧化氢的加入使铟的浸出 率从96%提升至99.9%以上,但对锡的浸出率无明 显影响,过氧化氢的加入使不易酸溶的低价InO和 In 0被氧化成易溶的高价铟氧化物。过氧化氢添加 量达到10%时,铟的浸出率达到99.9%,故选择 10%氧化剂为合适浸出条件。 2.5杂质锡的脱除 在盐酸浸出试验中,铟浸出率达到99.9%条件 时,约有38%锡进入浸出液,因后续采用铝板置换 铟,因此考虑采用铝粉置换除锡。浸出液中铟离子 浓度94.25 g/L,锡离子浓度4.35 g/L,残余氢离子 浓度约1.5 mol/L。铝粉置换前,向浸出液加入 NaOH调节浸出液pH=2,pH过低会加大铝粉消耗 量,在反应时会大量放热且放出气体,不利于反应控 制,pH过高有可能使铟、锡离子水解析出。向浸出 液中加入恰好完全置换锡离子所需铝粉理论量的 1.2至2.4倍铝粉,水浴保持反应温度60℃,置换时 间2 h,置换结果如图5所示。 湖南有色金属 第31卷 参考文献: [1] GrandqvistC G,Huhaker A.Transparent and conducting ITO fihns: new developments and applications[J].Thin Solid Films,2002, (411):1—4. 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[5]HN Kang,JY Lee,JYKim.Recovery ofindiumfrom etchingwaste by solventextraction and electrolytic refining[J].Hydrometallurgy, 2011,(10):120—127. 图5 不同置换因素下的铟锡置换率 由于部分铝粉被氢离子消耗,当铝粉加入量超 过理论量2.0倍后,锡的除去率才达到99%以上,在 [6]金谷浩一郎.稼和铟的资源现状与未来[J].国外稀有金属, 1991,(1):48—51. 铝粉加人量为理论量2.1倍,反应时间2 h条件下, 可除去99.8%以上的锡,浸出液中剩余锡离子浓度 0.01 mol/L,且铟的损耗小于3%,是较为理想的除 杂工艺。 [7]Yuhu Li,Zhihong Liu,Qihou IJ,et a1.Recovery of indium from used indium tin oxide(ITO)targets[J].Hydmmetallurgy,2011,(105): 207—212. 【8] 李严辉,张欣,杨永峰.ITO废靶中铟的回收[J].中国稀土学 报,2002,(12):256—257. 3结论 [9] 陈坚,姚吉升,周友元,等.ITO废靶回收金属铟[J].稀有金 属,2003,(1):101—103. 1.用盐酸加氧化剂(H O )浸出ITO废靶材,铟 的浸出率可达99.9%,锡浸出率为38%。较佳的浸 出条件为:初始酸度4 mol/L,浸出温度80℃,浸出 时间2 h,氧化剂(H 0 )加入量10%。 [10]Sami Virolainen,Don Ibana,Erkki Paatero.Recovery of indium from indium tin oxide by solvent extraction[J].Hydrometallurgy, 2011,(107):56—61. [11]刘志宏,李玉虎,李启厚,等.ITO废靶浸出过程研究[J].稀有 金属快报,2004,(10):13—16. [12]Hee—Nam Kang,Kwan—Young Kim,Jong—Young Kim.Recover- Y and puriicatfion of indium from wastesputtering target byseleetive 2.采用铝粉置换去除浸出液中杂质锡,锡的脱 除率可达99.5%,除锡过程中铟损失少。较好的置 换条件为:pH值为2,置换温度60℃,铝粉加入量为 solvent extraction of Sn[J].Green Chemistry,2013,(15):2 200 理论用量的2.1倍,置换时间2 h。 3.铟锡的浸出及分离工艺可得到含锡量低于 2 207. [13]王树凯.铟冶金[M].北京:冶金工业出版社,2006.21—23. [14]云南锡业公司,昆明工学院《锡冶金》编写组.锡冶金[M].北 京:冶金工业出版社,1977.11—13. 0.01 mol/L的铟浸出液,铟得总损耗约3%,浸出分 离效果理想。 收稿日期:2014—12—10 Research for Indium and Tin Separation from ITO Waste Target by Method Hydrochloric Acid Leaching Process FAN Wen—bo,LI Rui—di,YUAN Tie—chui (School of Powder Metallurgy,Central South University,Changsha 410083,China) Abstract:The optimum reaction conditions of indium and tin separation from ITO waste target by hydrochloric acid leaching process has been investigated.Indium leaching rate of 99.9%under 4 mol/L of initial acid concentration and 10%of the added amount of hydrogen peroxide at 80℃for 2 h。In addition to tin aluminum replacement process,get to pH=2,temperature 60 oC,the replacement time of 2 h and aluminum powder is added in an amount of 2.1 times the theoretical amount is displacement conditions。By this method we obtain the leaching solution which removal rate of tin ions is 99.8%.and indium loss rate less than 3%. Key words:ITO;leaching;indium and tin separation