专利名称:一种中孔含硅的氧化铝材料及其制备方法专利类型:发明专利
发明人:熊晓云,高雄厚,胡清勋,王久江,赵红娟,刘宏海,王宝
杰,黄世英,高永福,田爱珍,张莉,赵晓争
申请号:CN201910988819.6申请日:20191017公开号:CN112675829A公开日:20210420
摘要:本发明提供一种中孔含硅的氧化铝材料及其制备方法。该中孔含硅的氧化铝材料以氧化物重量计,其无水化学表达式为:(0‑0.3)NaO:(5‑25)SiO:(80‑98)AlO;200℃下吡啶红外测得的B/L酸比值为0.2‑0.5,所述的材料通过TEM表征,具备网状结构表面。该材料的制备方法包括:将水、拟薄水铝石,烷基三甲基季铵盐型阳离子表面活性剂混合,搅拌下加入计量的Y型沸石导向剂,混合均质,随后升温反应;反应结束后将所得固体沉淀物过滤、洗涤,干燥,焙烧。
申请人:中国石油天然气股份有限公司
地址:100007 北京市东城区东直门北大街9号中国石油大厦
国籍:CN
代理机构:北京律诚同业知识产权代理有限公司
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